Монополія нідерландської компанії ASML на виробництво літографічних систем для виготовлення мікрочипів може похитнутися.

Китайська державна компанія Shanghai Aishengna Electronic Technology Group розпочала серійне виробництво установок імерсійної літографії глибокого ультрафіолету (DUV) власної розробки. Про це повідомляє Reuters із посиланням на обізнане джерело.

Маловідома компанія, заснована у серпні 2023 року зі статутним капіталом 7 млрд юанів, очолила розробку ключової технології для виробництва сучасних напівпровідників після того, як до її складу увійшли команди провідних китайських стартапів у сфері літографії. Серед них — Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) та Yuliangsheng, яка торік розпочала випробування прототипу DUV-літографа.

За даними The Information, виробництво DUV-літографів налагоджено в Шанхаї. Цього року планується випустити п'ять установок, а наступного — двадцять. Їх отримають провідні китайські виробники мікрочипів, зокрема SMIC, Hua Hong Semiconductor та CXMT.

За словами джерела Reuters, розроблена Aishengna установка ще має пройти додаткові випробування і поки що суттєво поступається за можливостями обладнанню нідерландської ASML. Її найсучасніші літографічні системи працюють у наджорсткому ультрафіолетовому діапазоні (EUV) та використовуються для виробництва чипів за техпроцесом 5 нм і менше. Натомість DUV-літографи, випуск яких розпочинає Китай, належать до передостаннього покоління таких систем і призначені для виробництва чипів за техпроцесом 7 нм.